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论文题目：沉积在钨针尖上的碳纳米管场致电子发射特性的研究

论文编号： lw200708071028236608

编辑： li

论文属性：课程论文

论文国籍：

论文语言：中文

登出日期： 2007-08-07

点击次数：782

论文字数：7215

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沉积在钨针尖上的碳纳米管场致电子发射特性的研究

摘要
本文主要说明了纳米级钨针尖的制作方法，并且用电化腐蚀制备出尖端曲率半径约为100~200nm的钨针尖。在此钨针尖上，我们采用了多种方法在其尖端生长或镀覆碳纳米管。其中包括电介质电泳的方法和镀铁后化学气相沉积法（CVD）生长碳纳米管。在电介质电泳法中，采用不同的电泳电压尖端上的附着情况有很大的差异，并直接影响了其场发射性能。在CVD法中，我们在钨的尖端上成功生长了碳纳米管，而且这些碳纳米管都是直立的。最后，所有的样品都进行了场致电子发射性能的测试。

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