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论文题目：同步辐射X射线光刻技术

论文编号： lw200708071156467874

论文属性：学术论文

论文国籍：

论文语言：中文

登出日期： 2007-08-07

点击次数：587

论文字数：3364

购买价格： 50

论文大纲，目录

关键词搜索：物理光学论文 学术论文

同步辐射X射线光刻技术

光刻技术是一种图形形成技术。30多年来大规模集成电路（VLSI）的迅猛发展不能不说极大地得益于高分辨率光刻技术的长足发展。X射线光刻（使用波长范围为0.2～5nm）最初由IBM的D．SPears和HI．Smith于1972年提出，首次同步辐射X射线光刻（LIGA）实验是于1974年在原西德DESY上完成的。LIGA是一种接近式光刻方法，具有分辨率高（目前的研究结果表明X射线光刻的分辨率极限可达30nm）、工艺宽容度大、可采用厚膜单层光刻胶的简单工艺、分辨率与视场无关、对有机尘埃不敏感、生产效率高等优点。而同步辐射光源与其他光源相比有很多优点，有利于光刻技术的研究和发展
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